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[单选题]

女性，24岁。主诉：前牙排列不齐。口内检查：磨牙关系中性。覆盖3mm，覆0mm。上中切牙外翻，上牙列拥挤4mm，下牙列拥挤4.5mm。X线头影测量为：SNA80°，SNB76°，U1/SN105°，L1/MP94°，SN/MP43°。软组织侧貌为直面型。上下唇突点至审美平面的距离分别为2mm和5mm。该患者支抗设计的正确叙述是

A.上下颌均为弱支抗

B.上下颌均为中度支抗

C.上下颌均为强支抗

D.上颌强支抗，下颌弱支抗

E.上颌强支抗，下颌中度支抗

参考答案与解析：

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女性，24岁。主诉：前牙排列不齐。口内检查：磨牙关系中性。覆盖3mm，覆0mm。上中切牙外翻，上牙列拥挤4mm，下牙列拥挤4.5mm。X线头影测量为：SNA80°，SNB76°，U1/SN105°，L

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    • 女，16岁，恒牙列，磨牙中性关系，双侧后牙反，上颌牙列6mm拥挤，下颌牙列拥挤5mm，覆2mm，覆盖3mm，牙弓狭窄、面型较窄长。X线头影测量结果SNA82°、SNB80°、U1-SN105°、L1-

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