[问答题] 叙述氮化硅的湿法化学去除工艺。
[多选题] 在半导体工艺中,与氮化硅比较,二氧化硅更适合应用在()。A . 晶圆顶层的保护层B . 多层金属的介质层C . 多晶硅与金属之间的绝缘层D . 掺杂阻挡层E . 晶圆片上器件之间的隔离
[填空题] 氮化硅的晶型及特点:α-Si3N4低温型(1400—1600℃)(),硬度高,不稳定;β-Si3N4高温型:长柱状或斜状晶体,韧性强。
[单选题]高密度氮化硅陶瓷选用哪种烧结方式最好()。A . 常压烧结B . 热压烧结C . 反应烧结D . 气氛烧结
[问答题] 碳化硅陶瓷和氮化硅陶瓷各具有什么特性?主要有什么用途?
[问答题] 微晶玻璃的制备原理及其工艺过程。
[单选题]下列关于耐高温新型陶瓷——氮化硅(Si3N4)的叙述,正确的是A.氮化硅中Si、N两种元素的质量比为4:3B.氮化硅中氮元素的质量分数为60%C.14g氮化硅中含硅8.4gD.氮化硅的相对分子质量为l44
[问答题] 晶圆的英文是什么?简述晶圆制备的九个工艺步骤。
[填空题] 薄膜电池分为:()和非晶硅薄膜电池。
[填空题] 先进的镗削刀具很多,除了硬质合金高精度镗刀以外,还有()和热压氮化硅等材料。