在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

[判断题] 光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。A . 正确B . 错误

[单选题]在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。A . 刻蚀B . 氧化C . 淀积D . 光刻

[问答题] 若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区，光刻时需要使用哪种光刻胶？为什么？并简介光刻操作流程。

[判断题] 双极型集成电路工艺是用来制造CMOS集成电路。A . 正确B . 错误

[填空题] 集成电路制造通常包括集成电路设计、工艺加工、（）、封装等工序。

[填空题] 集成电路制造中掺杂类工艺有（）和（）两种。

[判断题] 光刻的本质是把电路结构复制到以后要进行刻蚀和离子注入的硅片上。A . 正确B . 错误

[问答题] 在双极集成电路制造中，为什么要采用外延和埋层工艺？

[多选题] 超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。A . 高分辨率B . 高灵敏度C . 精密的套刻对准D . 大尺寸E . 低缺陷

[填空题] 集成电路的制造分为五个阶段，分别为（）、（）、硅片测试和拣选、（）、终测。