在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。

[多选题] 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。A . CA光刻胶对深紫外光吸收小B . CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C . CA光刻胶在显影液中的可溶性强D . 有较高的光敏度E . 有较高的对比度

[单选题]在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。A . DQNB . CAC . ARCD . PMMA

[判断题] 如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。A . 正确B . 错误

[判断题] 光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是，光刻胶只对特定波长的光线敏感，例如深紫外线和白光，而对黄光不敏感。A . 正确B . 错误

[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A . 正确B . 错误

[问答题] 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

[单选题]用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。A . ARCB . HMDSC . 正胶D . 负胶

[问答题] 若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区，光刻时需要使用哪种光刻胶？为什么？并简介光刻操作流程。

[判断题] 曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。A . 正确B . 错误

[问答题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？