光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。

[判断题] 双极型集成电路工艺是用来制造CMOS集成电路。A . 正确B . 错误

[填空题] 集成电路制造通常包括集成电路设计、工艺加工、（）、封装等工序。

[判断题] 在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。A . 正确B . 错误

[多选题] 超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。A . 高分辨率B . 高灵敏度C . 精密的套刻对准D . 大尺寸E . 低缺陷

[单选题]集成电路的主要制造流程是（）A . 硅抛光片——晶圆——芯片——集成电路——成品测试B . 硅抛光片——芯片——晶圆——成品测试——集成电路C . 晶圆——硅抛光片——芯片——成品测试——集成电路D . 硅抛光片

[填空题] 集成电路制造中掺杂类工艺有（）和（）两种。

[多选题] LTE发展驱动力（）A . 语言收入下降，B . 提升带宽，发掘新业务，C . 网络成本高，D . 引入新架构，降低业务成本

[单选题]集成电路不易制造的元器件是（）。A .三极管B .二极管C .电感D .n＋pf以下的电容

[单选题]下列不属于根据制造工艺的不同对集成电路分类的是（）。A . 膜集成电路B . 半导体集成电路C . 混合集成电路D . 模拟集成电路

[填空题] 集成电路的发展时代分为（）、中规模集成电路MSI、（）、超大规模集成电路VLSI、（）。