什么是负性光刻？正性光刻？

[填空题] 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。

[问答题] 什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？

[问答题] 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

[问答题] 光刻的本质是什么？

[问答题] 什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。

[名词解释] 光刻

[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A . 正确B . 错误

[判断题] 对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。A . 正确B . 错误

[问答题] 光刻技术

[问答题] 光刻和刻蚀的目的是什么？