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如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。

[判断题] 如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。A . 正确B . 错误

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  • 耗尽层宽度W

    [名词解释] 耗尽层宽度W

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  • 在P型半导体中空穴是多子,()是少子。

    [填空题] 在P型半导体中空穴是多子,()是少子。

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  • 计算机中运行的信号是脉冲信号,但这些脉冲信号均代表着确切的数字,因而又叫做()。

    [填空题] 计算机中运行的信号是脉冲信号,但这些脉冲信号均代表着确切的数字,因而又叫做()。

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  • MOSFET本征电容

    [名词解释] MOSFET本征电容

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  • Moore Law

    [名词解释] Moore Law

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  • 所谓(),是指幅度随时间连续变化的信号。

    [填空题] 所谓(),是指幅度随时间连续变化的信号。

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  • 晶体性质的基本特征之一是具有()。

    [填空题] 晶体性质的基本特征之一是具有()。

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  • 微电子技术的核心是集成电路,中央处理器是集成电路的标志性产品之一。

    [判断题] 微电子技术的核心是集成电路,中央处理器是集成电路的标志性产品之一。A . 正确B . 错误

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  • 什么是集成电路设计?集成电路的设计方法有哪些?

    [问答题] 什么是集成电路设计?集成电路的设计方法有哪些?

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  • 集成电路的特征尺寸有时也称线宽,通常是指集成电路中半导体器件的()。

    [填空题] 集成电路的特征尺寸有时也称线宽,通常是指集成电路中半导体器件的()。

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  • PN结的寄生电容有几种,形成机理,对PN结的工作特性及使用的影响?

    [问答题] PN结的寄生电容有几种,形成机理,对PN结的工作特性及使用的影响?

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  • 什么是电路模拟?其在IC设计中的作用?

    [问答题] 什么是电路模拟?其在IC设计中的作用?

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  • FPGA

    [名词解释] FPGA

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  • N型半导体中电子是多子,空穴是()。

    [填空题] N型半导体中电子是多子,空穴是()。

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  • 器件模拟

    [名词解释] 器件模拟

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  • 硅和锗都是Ⅳ族元素,它们具有()结构。

    [填空题] 硅和锗都是Ⅳ族元素,它们具有()结构。

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  • MEMS工艺与微电子工艺技术有哪些区别。

    [问答题] MEMS工艺与微电子工艺技术有哪些区别。

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  • 经过那些工艺流程可以实现选择“掺杂”?写出工艺流程。

    [问答题] 经过那些工艺流程可以实现选择“掺杂”?写出工艺流程。

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  • 集成电路设计和分立电路设计相比,有哪些特点?

    [问答题] 集成电路设计和分立电路设计相比,有哪些特点?

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  • 什么是基区宽变效应,基区宽变效应受哪些因素影响?

    [问答题] 什么是基区宽变效应,基区宽变效应受哪些因素影响?

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  • 简述晶体管的直流工作原理?

    [问答题] 简述晶体管的直流工作原理?

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  • MOS型集成电路又分为NMOS、PMOS、()型。

    [填空题] MOS型集成电路又分为NMOS、PMOS、()型。

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  • 非晶、()、单晶是固体的三种基本类型。

    [填空题] 非晶、()、单晶是固体的三种基本类型。

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  • 简述VHDL语言的用途及其电路描述风格?

    [问答题] 简述VHDL语言的用途及其电路描述风格?

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  • 集成电路设计流程,三个设计步骤?

    [问答题] 集成电路设计流程,三个设计步骤?

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  • 集成电路的特征尺寸是衡量集成电路加工工艺水平和()的主要指标。

    [填空题] 集成电路的特征尺寸是衡量集成电路加工工艺水平和()的主要指标。

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  • CMOS集成电路版图设计中,什么是有比例设计和无比例设计,对电学参数有哪些影响?

    [问答题] CMOS集成电路版图设计中,什么是有比例设计和无比例设计,对电学参数有哪些影响?

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  • MPW

    [名词解释] MPW

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  • HDL

    [名词解释] HDL

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